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テキスト

主催・企画元:(株)&Tech
※本セミナーは、2017年7月28日に実施したセミナー資料です

『フォトレジスト材料における基礎・技術動向・高感度化と各添加剤の選定』
  ~感光性ポリマー・各種添加剤・フォトリソグラフィからの要求特性~


★自動車センサやIoTなどの半導体産業の活況で、ますます伸びる半導体材料!
★レジスト材料を使用するユーザー、レジスト材料開発、処理装置開発に携わる方々にむけた実務講座!
★光酸発生剤および光塩基発生剤、酸増殖剤や塩基増殖剤などの特に樹脂材料を強化するための添加剤の使い方を丁寧に説明します!

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テキスト概要


商品番号
AT20170702 「フォトレジスト」
形式
パワーポイント資料形式

著者
 
第1部 (株)ADEKA 情報化学品開発研究所 光素材研究室 中屋敷 哲千 氏

第2部 大阪大学 産業科学研究所 特任教授 遠藤 政孝 氏
価格

1冊につき30,240円(税込)


第1部 光開始剤を中心としたフォトレジスト用添加剤の開発と使い方・および周辺材料の開発

講師:(株)ADEKA 情報化学品開発研究所 光素材研究室 中屋敷 哲千 氏

【講演主旨】
 フォトレジストはフォトリソグラフィーによるパターニングを行う際に利用されている材料である。光(UV)を用いて精細なパターンを形成できることから、現状ではあらゆる電子情報機器の製造プロセスの基盤技術となっている。このフォトレジストの性能を支配する材料が光開始剤であり、フォトレジストの利用範囲の拡大やパターン精細度の向上を支えるためにこの材料の技術も様々な工夫がなされ日々改良が進んでいる。本講演では光開始剤や添加剤を適切に用いることでフォトレジストの性能をいかに引き出せるか、実際の製品を例に取りながら紹介する。また、フォトレジスト以外の用途展開についても提案していく。

【プログラム】
1.光開始剤について
 1-1 光硬化技術について
 1-2 光開始剤の種類と特徴

2.光開始剤の設計と評価
 2-1 光開始剤に求められる特性
 2-2 光開始剤の設計と合成
 2-3 光開始剤の評価

3.ディスプレイ向けフォトレジスト用光開始剤
 3-1 概要
 3-2 フォトレジストの感度と光開始剤
 3-3 フォトレジストのパターニング特性と光開始剤

4.UV-LED用光開始剤
 4-1 各UV-LEDに対応した光開始剤
 4-2 UV-LEDの硬化性評価

5. フォトレジスト用添加剤
 5-1 光硬化に適した酸化防止剤について
 5-2 光硬化に適したUV吸収剤について




第2部 半導体用途に向けた微細加工用リソグラフィ・フォトレジストの基本と技術動向

講師: 大阪大学 産業科学研究所 特任教授 遠藤 政孝 氏

【講演趣旨】
 半導体の高集積化を支えるリソグラフィ技術は進展を続け、10nmに迫る微細加工を達成してきている。フォトレジストはリソグラフィを支える基盤材料である。本講演では半導体フォトレジストの基本から最新の動向について述べる。今後の展望に欠かせない、半導体フォトレジストの課題、高性能化についても詳しく述べる。

【プログラム】
1.ロードマップにおける半導体フォトレジストの位置づけ

2.半導体フォトレジスト
 2-1 溶解阻害型レジストの基本
 2-2 化学増幅型レジストの基本
 2-2 化学増幅型レジストの課題と高性能化

3.半導体フォトレジストの新展開
 3-1 液浸リソグラフィ用フォトレジストの基本
 3-2 液浸リソグラフィ用フォトレジストの課題と高性能化
 3-3 EUVリソグラフィ用フォトレジストの基本
 3-4 EUVリソグラフィ用フォトレジストの課題と高性能化

4.半導体フォトレジストの今後の展望 

【AT20170702 技術テキスト】『フォトレジスト材料における基礎・技術動向・高感度化と各添加剤の選定』
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商品コード: AT20170702

【AT20170702 技術テキスト】『フォトレジスト材料における基礎・技術動向・高感度化と各添加剤の選定』

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