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セミナー

主催・企画元:&Tech
※当セミナー企画は講師と主催会社の発案によるセミナー企画であるため内容の無断転載を禁ずる

『半導体洗浄の基礎・プロセス・要素技術と最新市場動向・機能水の活用
~半導体の洗浄・メカニズムと薬液・純水系洗浄・汚染制御の問題点~』


★微細化が進んで高アスペクト比のトレンチ構造や3D構造が製品化され始め、今までのクリーン化とは違う視点が必要になってきている。
そのための洗浄方法とは?
★金属汚染(Fe, Cu等)およびナノパーティクル、分子汚染、各種汚染の分析解析方法及びモニタリング技術とは?
★機能水利用による半導体洗浄技術と応用例、今後の展開はどうなっていくのか?

★事前内容リクエストサービス実施中! お客様の実務課題の持ち込み大歓迎です!

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セミナー概要


セミナー番号
S71023 「半導体洗浄」
 (※本セミナーにお問い合わせの際は、セミナー番号と略称でお尋ねください)
対 象半導体洗浄に関心・課題のある事業企画担当者、研究者、マーケッターなど

講 師
 

第1部 オフィスシラミズ  白水 好美 氏

第2部 オルガノ(株) 産業プラント本部 プラント事業部 エレクトロニクスビジネスユニット 二ツ木 高志 氏

会 場
東京中央区立産業会館 4F 第2集会室【東京・中央区】
◆都営浅草線 東日本橋駅 浅草橋・押上方面より B3出口 4分
◆都営新宿線 馬喰横山駅 地下通路経由 B4出口 5分
◆JR総武線 浅草橋駅 東口 8分
日 時
2017年10月31日(火) 13:30-16:30 (※受付は30分前より開始します)
定 員30名 ※満席になりましたら、締め切らせていただきます。早めにお申し込みください。
聴講料

【1名の場合】34,560円(税込、テキスト費用を含む)

【2名の場合】39,960円(税込、テキスト費用を含む)

【3名以上の場合は一名につき、5,400円加算】(税込、テキスト費用を含む)
※3名以上ご要望の場合は2名を選択し、備考欄にその旨お書きくださいませ

※ 弊社講座は、複数でのご参加を希望される場合、サービスとして1名につき、5,400円で何名でも追加の申し込みができますが、同一部署に限ります。なお、別途でのお申し込みは正規料金になります。ご了承ください。
 
※ AndTechの講習会は、特別割引とポイント割引など、2種類以上の割引は、同時には適用されません。誤って、2種類以上の割引を同時にご利用された方には、後程、事務局より割引選択のための確認連絡をいたします。

申込後
※ お申し込み後、受講票と請求書を郵送しますので、請求書記載の銀行口座に沿って、お振り込みをお願いします
※ 受講券、請求書は、2名以上でお申し込みをされた場合は、代表者様にご郵送いたします
※ 請求書および領収書の発行形式への要望があれば、申込時、備考欄へ記載ください
※ 参加者は、途中変更も可能です。参加時に名刺をご持参ください
※ ご参加手続きの際、自宅住所やフリーアドレス、個人携帯番号のみで登録された場合は、ご所属確認をさせいただくことがございます。


第1部 先端半導体洗浄の基礎と要素技術、汚染制御、市場動向
【13:30-15:00】

講師: オフィスシラミズ 白水 好美 氏

【キーワード】
1. ウェット洗浄
2. SCCO2洗浄乾燥

【ご経歴】
1983年4月~1991年6月 富士通株式会社
1991年10月~2013年9月 日本電気株式会社、NECエレクトロニクス㈱、ルネサスエレクトロニクス㈱
2013年11月~2015年12月 Samsung electronics㈱ 歩留まり改善および汚染制御技術開発
2016年1月~現在   オフィスシラミズ

【講演主旨】 
半導体の製造ライン及び製造プロセスでの汚染を如何に少なくして歩留りを上げるかが課題となっている。新材料系のメタルの導入も盛んに行われてきている。微細化が進んで高アスペクト比のトレンチ構造や3D構造が製品化され始めている。そこで、今までのクリーン化とは違う視点が必要になってきている。一方で各デバイスメーカーは半導体製品のコストを下げる施策を打ち出している。以上のことを踏まえて、汚染制御の必要性について講演する。

【プログラム】
1.序論-汚染が半導体デバイスに与える影響
 1-1 金属汚染(Fe, Cu等)およびナノパーティクル 
 1-2 分子汚染(NH3, アミン, 有機物, 酸性成分)
 1-3 各種汚染の分析解析方法及びモニタリング技術

2.洗浄技術
 2-1 RCA洗浄  
 2-2 各種洗浄液と洗浄メカニズム-薬液系洗浄 vs. 純水系洗浄
 2-3 洗浄プロセスの動向
 2-4 最先端の洗浄技術とその問題点

3.その他の汚染制御技術
 3-1 工場設計
 3-2 ウェハ保管、移送方法

4.次世代の汚染制御の問題点と今後の課題
 4-1 新洗浄乾燥技術(SCCO2洗浄乾燥, 極低温エアロゾル洗浄)
 4-2 次世代の洗浄、汚染制御の問題点と今後の課題

5. まとめ


【質疑応答・名刺交換】



第2部 機能水利用による半導体洗浄技術と応用例、今後の展開
【15:10-16:30】

講師:オルガノ(株) 産業プラント本部 プラント事業部 エレクトロニクスビジネスユニット 二ツ木  高志 氏

【キーワード】
1. 機能水
2. 帯電防止
3. 再付着防止

【講演主旨】
 

【プログラム】
1.機能水製造装置開発・上市の経緯

2.機能水の種類と水質

3.機能水処理の効果
 3-1 NH3水、CO2水
 3-2 H2水、N2水
 3-3 O3水

4.機能水製造装置の紹介

5.Wet Processへの取り組み

6.まとめ

【質疑応答 名刺交換】


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『事前予約可能セミナー』

★今後、気になるテーマにつき、「とりあえず」の席の確保が可能となる「無料の事前予約サービス」を開始いたしました!
●「事前予約」で申し込みをしても、14日前まではキャンセル可能。
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『半導体洗浄の基礎・プロセス・要素技術と最新市場動向・機能水の活用』【2017年10月31日】
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商品コード: S71023

『半導体洗浄の基礎・プロセス・要素技術と最新市場動向・機能水の活用』【2017年10月31日】

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